現(xiàn)在我們的芯片研究非常快。從100多個納米系統(tǒng)到目前的5納米系統(tǒng)制式，20倍的縮減意味著技術(shù)的進(jìn)一步集中和完善。就目前的5納米工藝而言，這些芯片可以與我們?nèi)祟惉F(xiàn)在的科技已經(jīng)可以相互匹配。

　　芯片作為一種高精度電子元件，對生產(chǎn)水的要求很高，如果水質(zhì)不合格會影響芯片的電阻率，萊特萊德超純水設(shè)備生產(chǎn)的水質(zhì)是除了水分子外，幾乎沒有雜質(zhì)水質(zhì)，電阻率可達(dá)到18mΩ·CM，滿足芯片行業(yè)的用水需求，隨著芯片行業(yè)的快速發(fā)展，超純水設(shè)備的市場前景越來越廣闊。

　　萊特萊德超純水設(shè)備采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、超純化處理和后級處理等方法，幾乎完全去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水系統(tǒng)設(shè)備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件、EDI系統(tǒng)和拋光混合床，超純水系統(tǒng)設(shè)備通常由預(yù)處理部分、反滲透主機部分和后處理部分組成，主要具有以下優(yōu)點：

　　1、無需酸堿再生：在混床中樹脂需要用化學(xué)藥品酸堿再生，而EDI則消除了這些有害物質(zhì)的處理和繁重的工作。保護(hù)了環(huán)境。

　　2、連續(xù)、簡單的操作：在混床中由于每次再生和水質(zhì)量的變化，使操作過程變得復(fù)雜，而EDI的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，產(chǎn)水水質(zhì)是恒定的，沒有復(fù)雜的操作程序，操作大大簡便化。

　　萊特萊德超純水設(shè)備具有抗污染能力強、節(jié)能環(huán)保、水質(zhì)穩(wěn)定、脫鹽率高、系統(tǒng)無死水等優(yōu)點。出水水質(zhì)符合美國ASTM D5127電子半導(dǎo)體行業(yè)純水水質(zhì)Typee-1.2，高于中國國家電子級超純水標(biāo)準(zhǔn)GBT11446.1-1997EW-Ⅰ標(biāo)準(zhǔn)。