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半導(dǎo)體的生產(chǎn)需要經(jīng)過晶圓制備與清洗、沉積、光刻、蝕刻、摻雜、清洗等步驟。并且在這一系列的工序中需要應(yīng)用到超純水進(jìn)行清洗，超純水的品質(zhì)被嚴(yán)格要求著。...

萊特萊德超純水設(shè)備結(jié)合膜分離技術(shù)，利用反滲透結(jié)合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達(dá)18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導(dǎo)體生產(chǎn)用水的需求。...

反滲透膜生產(chǎn)超純水的工藝已經(jīng)很成熟，并且該技術(shù)水通量大，化學(xué)清洗周期長，出水水質(zhì)穩(wěn)定，特別適用于電子級(jí)超純水EDI系統(tǒng)前處理，可以有效地控制電子級(jí)超純水系統(tǒng)的TOC含量。...

芯片產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的超純水設(shè)備摒棄了傳統(tǒng)工藝，核心是采用的膜分離技術(shù)，應(yīng)用反滲透工藝與EDI和精處理混床工藝來生產(chǎn)超純水，不僅產(chǎn)水量增加，出水水質(zhì)能夠滿足ASTM D5127-13中E1.3標(biāo)準(zhǔn)， 滿足了芯片行業(yè)用水...

萊特萊德超純水設(shè)備，采用膜表面嫁接技術(shù)達(dá)到更好的脫鹽率，能連續(xù)、穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水。已成功應(yīng)用到晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等多個(gè)領(lǐng)域。...

萊特萊德超純水設(shè)備采用高效反滲透技術(shù)和EDI設(shè)備，結(jié)合新型反滲透膜分離技術(shù)和EDI技術(shù)制備超純水。與傳統(tǒng)工藝相比，該工藝運(yùn)行成本低且運(yùn)行可靠，整體化程度高、易于擴(kuò)展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。...