韓國環境部于去年11月在SKSilitron工廠舉辦了超純水示范工廠的奠基儀式。新工廠將驗證工業用超純水制造相關的各項技術，其中包含用于有機物去除的UV氧化系統，用于去除溶解氧的脫氣系統，以及相關設備和施工方式。

　　新工廠建在半導體制造商的工廠內，在技術驗證期間也能供應超純水，韓國計劃在2025年之前完成技術驗證，目的是減少對于外國技術的依賴。這家工廠的目標是每天生產2400噸超純水，此外遠期目標是將生產和運營過程中進口設備的使用率降低至0%，技術和設備采購方面的進口依賴程度降低到40%。

　　據了解，超純水是半導體芯片制造過程中必不可少的，臺積電每天需要用到大量的超純水對晶圓表面進行清潔。這種水內部的有機物含量需要低于0.01ppm(百萬分之一)。此前，韓國一直依賴從法國和日本進口超純水。

　　說到這兒，對于超純水不了解的人一定很想知道什么是超純水?超純水該如何生產及應用?它與我們經常提到的純水有什么區別呢?為什么在電子芯片生產中會經常提到超純水呢?接下來小編就一一為大家做解答。

　　我們要知道什么是超純水。

　　超純水(Ultrapure water)又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。可以用于超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制備過程。

　　那么，它與我們經常提到的純水，高純水有什么區別呢?

　　純水是指水中的強電解質和弱電解質(如等)去除或降低到一定程序的水。其電導率一般為：1.0-0.1μs/cm,電阻率1.0-10.0×106Ω·cm。含鹽量<1mg/L。在試驗中使用較多，又因是以蒸餾等方法制作，故又稱蒸餾水。市場上出售的太空水，蒸餾水均屬純凈水;但純水還是少喝為好，因為里面并沒有太多人體需要的礦物質。

　　高純水指化學純度極高的水，其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域，但其對水質純度要求相當高，所以一般應用普遍的還是電子工業。例如電力系統所用的純水，要求各雜質含量低達到“微克/升”級。總之，三種“純水”純度不一樣，用法也不同，沒有必要一較高下!

　　超純水該如何生產及應用?

　　超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除同時還能連續、穩定地生產高純度的超純水。

　　超純水可以在以下領域使用 ：

　　(1)電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

　　(2)化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等。

　　(3)單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。

　　(4)高壓變電器的清洗等。

　　既然應用領域如此廣泛，那么在芯片生產過程中有什么作用呢?

　　芯片相當于電子行業的“大腦”，雖然只有指甲蓋大小，但一個芯片板上要放上數十億個納米級別的晶體管。在芯片生產時80%以上的工序都需要經過化學處理，而每一道化學處理都離不開水，因此半導體行業對于生產用水的水質要求也是相當嚴格，因為一旦水質不合格，或者是水中含有雜質，就會降低器件的性能，降低成品率，因此在生產時需要用到超純水。芯片行業用水是否合格，也決定著產品是否能取勝，因此超純水設備成為了芯片行業“決勝點”。

　　萊特萊德超純水設備通常由石英砂過濾器，活性碳過濾器，阻垢劑、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　萊特萊德超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18MΩ.CM以上。設備內部還安裝有反滲透預脫鹽技術，再次從根本上行保障了設備的出水水質，與此同時，EDI處理裝置廢水產出量少，不會對環境造成污染，有非常高的環境效益、經濟效益，其發展前景廣闊。

　　綜上所述，這就是為什么生產超純水如此重要，在芯片生產中更需要。萊特萊德可根據客戶需求量身定制工藝用水、清洗用水、循環用水等超純水處理解決方案。