隨著光學(xué)領(lǐng)域?qū)λ|(zhì)要求的不斷提高，超純水的純度已成為影響光學(xué)器件質(zhì)量、收率和成本的重要因素之一。可以說，超純水設(shè)備的性能直接影響超純水的質(zhì)量。

　　在晶體管和集成電路的生產(chǎn)中，超純水的主要用途包括清洗硅片，少量用于制備藥液、氧化硅的水蒸氣源、一些設(shè)備的冷卻水以及電鍍?nèi)芤旱闹苽洌呻娐返馁|(zhì)量和收率息息相關(guān)。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜的耐電壓性能惡化，重金屬(AU、Ag、Cu等)會降低PN結(jié)的電壓電阻，III類元素(B、Al、GA等)會破壞n型半導(dǎo)體的特性，V族元素(P、AS、Sb等)會破壞P型半導(dǎo)體的特性。細(xì)菌在水中(約為灰分的20-50%)對磷進(jìn)行高溫炭化，可使局部p型硅變?yōu)閚型硅，導(dǎo)致器件性能下降。如果水顆粒(包括細(xì)菌)吸附在硅片表面，會導(dǎo)致短路或性能下降。

　　傳統(tǒng)的超純水處理工藝為單級/雙級反滲透設(shè)備+混床。其缺點(diǎn)是需要再生，不能連續(xù)產(chǎn)水，不僅效率低，而且浪費(fèi)資源。萊特萊德經(jīng)過多年實(shí)踐，同時(shí)結(jié)合膜分離技術(shù)，采用反滲透加離子交換系統(tǒng)(或EDI)相結(jié)合的工藝來制取超純水。與傳統(tǒng)工藝相比，該工藝具有運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)(離子交換器的再生周期大大延長)，運(yùn)行可靠。萊特萊德超純水設(shè)備出水水質(zhì)符合行業(yè)用水標(biāo)準(zhǔn)。

　　萊特萊德超純水設(shè)備除了應(yīng)用在光學(xué)領(lǐng)域外，在電子、電力、造紙、日化等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用，具有廣闊的應(yīng)用前景。萊特萊德專注電子超純水領(lǐng)域，是集研發(fā)設(shè)計(jì)、設(shè)備制造、工程施工、運(yùn)營維護(hù)為一體的環(huán)保解決方案服務(wù)商。