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與混床相比，在相同流量處理能力的情況下，EDI超純水系統占地面積要小得多，約為混床的1/10。這種對用戶友好的設計是通過消除巨大的再生存儲和廢水中和系統來實現的。...
EDI超純水設備具有較高的性價比和設備可靠性。出水水質除水分子外幾乎不含雜質，電阻率可達18mΩ·cm，滿足芯片生產用水需求。...
超純水系統采用反滲透技術+EDI+拋光混床系統制備超純水。它是一種純物理過程的制備技術。其出水電阻可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質穩定、無污染物、成本低等...
EDI超純水設備用以生產制造純水，不用再造化工品，運作低成本。EDI系統自動化程度高，可以連續工作。出水量水體優良平穩，出水量電阻低≥15mΩ·cm。...
超純水，其標準是水電阻率為18.2MΩ-cm。超純水除了水，離子含量接近無，是一種強氧化劑，容易被空氣二次污染，即使儲存，電阻率也下降得很快。...
萊特萊德可以為用戶提供更好的超純水質量，有效解決超純水清洗芯片的問題，更好地提高芯片的良品率。...
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